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Vakuum Prozessgasanalysatoren CVD / MOCVD / ALCVD

solar-panels-mediumGasanalysen zur Reaktionskinetik und Gaszusammensetzung sind ein wesentlicher Bestandteil in der Prozessentwicklung und Überwachung von Chemischen Abscheideprozessen (CVD, PVD etc.).

Applikationsbereiche sind das Aufwachsen von Hartstoffschichten, Solarzellen, Diamant, DLC, Nitriden, III-V und II-VI Materialien.

Hiden Gas- und Plasmaanalysatoren enthalten spezielle Technologien zur Probennahme die eine hochempfindliche Analyse kritische Komponenten in CVD-Techniken erlauben, inklusive „Hot Filament“ CVD, Plasma Enhanced CVD, ALCVD und MOCVD.

SIMS ist eine hochempfindliche Oberflächen-Analysetechnik die für die Analyse Dünner Schichten durch CVD eingesetzt wird.

 

 

Produkte

 

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Broschüren

 

icon QIC Serie Gasanalysatoren Echtzeit-Gasanalysesysteme (636.8 kB)

 

 

Poster

 

 icon Analyse von MOCVD GaInP/Ga(In)As/Ge Triple Junction Solarzellen durch SIMS (181.2 kB)

icon In-Situ Charakterisierung von ALD Titanium-Dioxid (552.58 kB)

 

 

Präsentationen

 

icon Analyse Geladener Partikel in Plasmaunterstützten Prozessen (597.07 kB)

 

 

 

Applikationshinweise

 

icon Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition PPECVD Prozessgassanalyse (194.24 kB)

icon Studien von Magnetron Sputter-Abscheidungen Dünner Schichten (102.84 kB)